Одна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленка
  • Одна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленка
  • Одна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленка
  • Одна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленка
  • Одна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленка
  • Одна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленка
  • Одна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленка

Одна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленка

3 209 руб.

Описание

Технические характеристики:

1. Материал: Высокая чистота кремния

2. Длина: 10 мм

3. Ширина: 10 мм

4. Толщина: 2970um ультра тонкая пленка

5. Сопротивление: 0.001-50/Ω∙cm

6. Ориентация: <100>

7. Лак: односторонняя полировка

8. плоскость: <1 микрометр

9. Основное применение: Для процесса synchrotron облучения образец носителя, pvd/CVD покрытие подложек, магнетрон sputtering, XRD, SEM, рост выборочной атомной силы, инфракрасная спектроскопия, анализ флуоресценции спектроскопии, подложка, подложка, молекулярный луч эпитаксиальный рост полупроводникового кристаллического рентгеновского анализа.

Одна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленкаОдна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленкаОдна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленкаОдна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленкаОдна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленкаОдна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленкаОдна сторона полированная монокристаллического Si подложки 10 мм* 10 мм/высокой чистоты кремниевой подложке/2970um ультра тонкая пленка

Характеристики

Номер модели
Length * width=10mm*10mm
Габаритные размеры
Length * width=10mm*10mm
Стандартный
GB
Наличие стандарта
Стандарт
Материал
Monocrystalline silicon