Описание
Технические характеристики:Один кристалл, двусторонняя полировка, 2,3, 4 дюймаМатериал:Высокая чистота кремния Si один кристалл подложки. П/п опционально.Область применения:1. PVD/CVD покрытие подложка2. Используется как XRD (рентгеновский Дифракционный анализ), SEM (сканирующий электронный микроскоп), AFM (атомный силовой микроскоп), FTIR инфракрасный, флуоресцентная спектроскопия и другие аналитические тестовые подложки3. Синхротронное излучение экспериментальный носитель образцов4. Подложка для молекулярного пучка эпитаксиального выращивания5. Полупроводниковый процесс литографии и так далее
















