Описание
Технические характеристики:
Один с украшением в виде кристаллов,Двухсторонняя полировка, 2,3, 4 дюйма
Материал:
Кремний высокой чистоты Si Одиночная кристаллическая подложка. N/P опционально.
Область применения:
1. PVD/CVD покрытие подложки
2. Используется в качестве XRD (рентгеновский Дифракционный анализ), SEM (сканирующий электронный микроскоп), AFM (атомный силовой микроскоп), FTIR инфракрасный, флуоресцентный спектроскопия и другие аналитические тестовые субстраты
3. synchrotron радиационный экспериментальный носитель образцов
4. Подложка для молекулярного пучка эпитаксиального выращивания
5. Процесс полупроводниковой литографии и так далее









Характеристики
- Стандартный
- ANSI
- Наличие стандарта
- Стандарт
- Материал
- wafer















